Korištenje tehnologije katodnog luka plazma taloženja. Plazma taloženje katodnim lukom je relativno nova tehnologija taloženja tankog filma koja je na mnogo načina slična ionskoj oblozi. Njegove prednosti: visoka stopa jonizacije u emitovanom protoku čestica, a ovi jonizovani joni imaju visoku kinetičku energiju (40-100eV).
Mnoge prednosti taloženja jonskim snopom, kao što su poboljšana adhezija, povećana gustina stanja i visoka reaktivnost na formiranje složenog filma, sve se ogledaju u taloženju plazme katodnog luka. Plazma taloženja katodnim lukom ima svoje jedinstvene prednosti, kao što je mogućnost nanošenja na podloge složenijeg oblika, sa velikom stopom taloženja, dobrom uniformnošću premaza, niskom temperaturom podloge i jednostavnom pripremom jedinjenja ili legura sa idealnim hemijskim omjerima. .
Materijal katode isparava se procesom isparavanja zbog velike gustine struje, a rezultirajuće isparavanje se sastoji od elektrona, jona, centralnih atoma gasne faze i čestica. U tački katodnog luka, materijal se ionizira gotovo odmah. Joni se emituju u smjeru gotovo okomitom na površinu katode. Kada visokoenergetski joni hroma udare u azot, oni će odmah proći hemijsku reakciju i postati gasoviti. Molekuli hrom nitrida.
