Veličina čestica agensa za oslobađanje silicijum nitrida visoke čistoće je između 1-2 mikrona, što može efikasno rešiti problem oksidacije tokom procesa očvršćavanja prevlake na visokim temperaturama, značajno poboljšavajući čistoću polikristalnog silicijuma i monokristalnog silicijuma, a čistoća njegovog praha može biti Dostiže više od 99,99% i može se koristiti kao materijal za oblaganje kvarcnog lončića za topljenje polikristalnih silicijumskih ingota u fotonaponskoj industriji.
Može djelotvorno spriječiti da se unutrašnji zid lončića prianja za rastopljeni silicijumski materijal, olakša vađenje iz kalupa i djeluje kao sloj barijere kako bi se osigurala čistoća silicijumskog ingota. Proizvod su koristili mnogi proizvođači u Jiangxi, Fujian, Jiangsu, Henan, itd., i ima odlične performanse vađenja iz kalupa. , i u poređenju sa nano silicijum nitridom ili drugim vrstama sredstava za oslobađanje, ima odlična antioksidativna svojstva, osiguravajući da se koncentracija nečistoća kao što su ugljenik i kiseonik može efikasno kontrolisati tokom procesa proizvodnje.
Proizvod ima visoku čistoću, ujednačenu veličinu čestica, a njegove performanse su u potpunosti uporedive sa sličnim stranim proizvodima. Proizveden je masovno.
